深度丨EUV光刻机巨头风云争夺战

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·聚焦:人工智能、芯片等行业 欢迎各位客官关注、转发 前言 ： 各大巨头在未来仍将围绕 High-NA EUV设备展开激烈竞争，争相导入或宣布市场进展，预示着半导体行业将迎来新一轮技术革新。 目前，英特尔、台积电、三星、 SK海力士等晶圆制造大厂已纷纷对High-NA EUV光刻机表现出强烈的关注与行动。 作者  | 方文三 图片来源  |    网 络  High-NA EUV光刻机到来，巨头们承压下角逐 如今，随着 ASML High-NA EUV光刻机的问世，半导体行业迎来新的竞争高潮。 ASML露面的High NA EUV光刻机，为2纳米技术揭开神秘面纱。 这一新一代光刻机的售价高达3.5亿欧元，约合人民币27亿元，将成为全球三大晶圆制造厂实现2纳米以下先进制程大规模量产的必备设备。 然而，这一高性能光刻机的价格是当前EUV光刻机的两倍，从而带来设备成本的大幅增加。 虽然这一技术将推动 ………………………………