文章预览
第一作者:魏烈浩 通讯作者:刘庆岭 教授 通讯单位:天津大学 论文DOI: 10.1016/j.apcatb.2024.124755 全文速览 本文通过煅烧和引入Ga合成了具有不同LAS/BAS比例的HZSM-5催化剂,并探究了H 2 O对不同催化剂CH 3 OH-SCR性能的影响。研究结果表明:H 2 O是富含BAS的HZSM-5的抑制剂,却是富含LAS的Ga/HZSM-5的促进剂。在无H 2 O条件下,HZSM-5中的BAS位点(Si(OH)Al)促进了中间体甲酰胺的生成;然而,Ga/HZSM-5催化剂中的LAS位点(Al-OH和GaO + )则将甲醇过度氧化为甲酸盐物种,因此呈现出较差的CH 3 OH-SCR性能。当引入H 2 O时,其会和CH 3 OH在BAS处发生强烈竞争吸附,使HZSM-5的催化活性急剧下降;而LAS含量较高的Ga/HZSM-5仍能吸附和活化CH 3 OH,因此表现出较好的催化活性。 背景介绍 HZSM-5分子筛具备丰富的Lewis和Brønsted酸性位点,是一种十分有潜力的甲醇选择性催化还原NO x 催化剂。
………………………………