过渡金属二硫化物在电催化和光电催化过程中活性位点分布的宽场成像

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【研究背景】 过渡金属硫族化合物(TMDs),如WSe 2 和MoS 2 ,在许多重要的反应中表现出显著的电催化和光催化活性，如H 2 O分解、N 2 还原、CO 2 还原。这些二维材料在电化学界面上的催化性能在很大程度上依赖于它们的局部原子结构，例如缺陷位点、边缘和角;然而，这些单元可以作为有害的重组中心或有益的催化位点。因此，必须使用原位表征技术对这些活性位点进行研究，以全面了解催化反应过程中催化剂的动态构效关系，从而提高催化性能。 【工作介绍】 近日，南方科技大学郝瑞团队设计开发了一种原位宽场成像技术来绘制不同类型TMDs中的电子分布，该方法通过使用电子诱导的金属离子还原反应对电催化和光电催化过程中的n型MoS 2 和p型WSe 2 进行高时空分辨率的分析，在透射和落射模式下对界面金属还原反应使用低功率的宽场成像，与光电催化 ………………………………