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本文由半导体产业纵横(ID: I CVI E W S)编 译自businesskorea 三星专注于提高良率,而SK海力士则专注于长期技术进步。 韩国两大半导体巨头三星电子和SK海力士在极紫外(EUV)光刻技术上采取了不同的策略,引起了业界的高度关注。这一发展正值两家公司都致力于增强其在高度动态和竞争激烈的半导体市场中的竞争力之际。 作为年终组织重组的一部分,三星电子在全球制造和基础设施总部下成立了一个新的工作组(TF)团队,名为“EUV Synergy TF”。此举被视为提高超精细半导体制造(例如 3 纳米 代工厂)良率的努力。EUV Synergy TF 的任务是监督 EUV 设备管理,重点是提高光刻和跟踪设备的生产率。该团队的目标是最大限度地提高EUV光刻设备中使用的各种材料和组件的生产率,其中包括ASML独家供应的价值200亿美元的光刻机和东京电子的EUV轨道设备。 三
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