ASML：EUV光刻机已近极限 陆面临追赶技术或另闢蹊径抉择...

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点击 ↓↓↓ "两岸商汇" 去关注 公众号 吧! ↓↓↓ 戳下面视频观看 ASML首席财务官达森（Roger Dassen）表示，EUV技术路线发展受欧美限制，且光刻机已接近技术极限，此一技术路线前景不明。 积极寻求突破的中国厂商是持续投入资源突破现有限制进行技术跟随？还是将资源另闢蹊径寻找新的技术路径？将面临艰难的抉择。 据《芯智讯》报导，台积电已经订购了High NA EUV（高数值孔径极紫外光）光刻机，ASML与台积电的商业谈判即将结束，预计在第2季度或第3季度开始获得大量 2nm晶片製造相关设备订单。 ASML预测其设备的市场需求有望一路走强至2026年，这主要是受益于各国政府推动的晶片製造当地化策略。 报导说，High NA EUV光刻机的价格相当昂贵，一台要价超过3.5亿欧元（约合台币117亿元）。 台积电业务开发资深副总裁张晓强（Kevin Zhang）日前表示， ………………………………