Molecules 基于正交实验的Cat-CVD制备可控折射率的高均匀性氮化硅（SiNx）薄膜评估与表征

文章预览

点击蓝字   关注我们 为了方便各位同学交流学习，解决讨论问题，我们建立了一些微信群，作为互助交流的平台。 加微信交流群方式: 1.添加编辑微信:13162018291； 2.告知:姓名-课题组-研究方向，由编辑审核后邀请至对应交流群(生长，物性，器件)； 欢迎投稿欢迎课题组投递中文宣传稿，免费宣传成果，发布招聘广告，具体联系人：13162018291（微信同号） 成果介绍 氮化硅（SiNx）薄膜是一种极具潜力的涂层，具有优异的物理化学和光学性能。然而，制备出综合性能良好的薄膜仍然面临着诸多挑战，如衬底低温（＜200℃）、无等离子损伤。 有鉴于此， 江西省科学院应用化学研究所李鸣慧 团队 & 汉可公司黄海宾团队 开发一种利用自制的催化化学气相沉积（Cat-CVD）设备来制备具有可控折射率的均匀SiNx薄膜的方法。采用正交实验设计，研究了反应压力、S ………………………………