东华王刚、孙恒达/川大冯良文《AM》：直接微光刻技术实现有机半导体晶体管光-电-离协同的晶圆级集成

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在柔性电子技术不断突破的今天，传统光刻技术在硅基半导体器件制造中已成熟应用，但在有机电子领域仍面临重大挑战。如何在保证高精度图案化的同时，维持有机半导体的优异电荷传输和离子传输特性？这一问题长期制约着柔性电子和生物电子器件的发展。 为解决这一问题， 东华大学 王刚 、 孙恒达研究员 联合 四川大学 冯良文研究员 发表了 基于光子-电子-离子杂化的有机半导体集成晶体管阵列的直接光刻工作，突破了传统光刻技术在杂化半导体体系中的技术瓶颈 。相关研究以“Trace Dual-Crosslinkable Additives Enable Direct Microlithography for Enhanced Organic Electrochemical Transistors”为题且作为编辑推荐文章（Editor’s Choice）发表在学术期刊 Advanced Materials 上（DOI: 10.1002/adma.202417452）。相关工作得到了 朱美芳院士 指导，受到国家自然科学基金、国家重点研发 ………………………………