中国芯片还需要DUV光刻机吗？

文章预览

作者丨无锈钵 山核桃 编辑 | 苏扬 美编丨渔   夫 本文来自硅基研究室授权转载 美国对中国半导体产业“卡脖子”的关键绳索，在2024年开年之际，悄然落下。 当地时间1月1日，荷兰光刻机巨头ASML发布声明称，荷兰政府已于近期部分吊销了向中国大陆出口部分芯片制造设备的许可证，涉及设备型号为NXT:2050i和NXT:2100i光刻系统，并遗憾表示“可能会对少数客户带来影响”。 少数客户是谁，影响范围可能有多大？ASML没有答案。 由于更先进的EUV光刻设备早在2019年被禁运，此次被限制出口的2050i，2100i基本上可以视作当前最先进的一批DUV光刻机型号，广泛应用于40nm以下的制程产能中，对应28nm、14nm、10nm、7nm四个主要制程节点。 作为1980di机型的升级版，2050i，2100i同属采用193nm波长光的浸润式光刻设备，借助多重曝光等技术，具备生产7nm制程芯片的能力， ………………………………