上海微系统所涂敏课题组ACS Nano封面： 普适性MOF直接光刻图案化

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▲ 第一作者：朱赵辉 硕士研究生 通讯作者：涂敏 青年研究员  通讯单位：中国科学院上海微系统与信息技术研究所 传感技术联合国家重点实验室  论文DOI：10.1021/acsnano.4c04213 （点击文末「阅读原文」，直达链接）     全文速览 MOF薄膜的沉积和图案化是将其集成到微电子器件中的关键步骤，传统的光刻手段往往面临步骤冗余和光刻胶污染等问题。通过将MOF材料与光制酸引发剂复合，利用紫外光激发诱导光酸产生导致MOF框架结构的破坏，实现具有普适性的MOF材料的无光刻胶直接图案化。     背景介绍 MOFs独特的骨架与孔道结构特征决定了它们具有独特的大比表面积、高孔隙率和化学可调性等特性，最初因其出色的气体储存性能而受到研究，最近又发现其在微电子学和光电子学等领域具有潜在的应用前景，包括低介电常数器件、场效应晶体管、光 ………………………………