华南理工殷盼超教授 Angew：聚合物亚纳米粒子超分子复合膜用于高精度纳米压印

主要观点总结

本文介绍了华南理工大学殷盼超教授团队设计的一种超分子复合体系，该体系可用于亚2 nm分辨率的纳米压印（NIL）。该体系通过将水性的聚乙烯醇（PVA）和亚纳米尺度的Keggin型多金属氧簇（POM）通过简单的水溶液共混，获得了低残余应力、高透光、高强度和高模量的薄膜。这一成果对于NIL技术领域的进步具有重要意义，相关论文已发表在《Angewandte Chemie International Edition》上。

关键观点总结

关键观点1: 研究团队设计了一种超分子复合体系，可用于实现亚2 nm分辨率的纳米压印（NIL）。

该体系结合了水性聚乙烯醇（PVA）和亚纳米尺度的Keggin型多金属氧簇（POM），通过简单的水溶液共混获得低残余应力、高透光、高强度和高模量的薄膜。

关键观点2: 研究解决了PVA结晶导致薄膜残余应力的问题。

通过使用尺寸约为1 nm的Keggin型磷钨酸（PTA）与PVA进行复合，驱动PVA从晶态向无序态转变，显著抑制了PVA的结晶行为，从而降低了薄膜的残余应力。

关键观点3: 该设计成功打破了低RS和高模量的权衡关系。

传统的增塑剂会降低模量和抗蠕变性能，而该设计提供的复合体系能够在维持强度和模量的同时，消除残余应力，为高精度NIL提供了可能。

关键观点4: 该复合体系具有广泛的应用前景。

由于制备成本低、工艺简单、NIL精度高且可大面积制备，该复合体系在集成电路和光波导材料等重要器件的先进制造领域具有非常重要的研究价值。

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