【授权】苹果新专利曝光,在可折叠设备的任意表面实现触敏控制；华羿微电“一种宽SOA屏蔽栅MOSFET器件及制备方法”专利获授权

主要观点总结

本文主要报道了华羿微电子、东软载波、苹果、济大魏琴团队以及中科大在科技创新方面的新进展。华羿微电取得了一种宽SOA屏蔽栅MOSFET器件及制备方法的专利。东软载波及其全资子公司获得了三项发明专利。苹果新专利实现了在可折叠设备的任意表面触敏控制。济大魏琴团队提出了一种纳米约束催化增强ECL的新策略。中科大在单原子催化晶面效应研究中取得新进展。此外，本文还报道了其他科技新闻。

关键观点总结

关键观点1: 华羿微电取得了一种宽SOA屏蔽栅MOSFET器件及制备方法的专利

该专利公开了通过在器件有源区中间隔错位或平行排列形成沟槽和接触孔不同宽度的版图布局，从而实现更窄的沟槽到接触孔距离，形成与其他区域不同的浓度梯度，提升器件整体的SOA。

关键观点2: 东软载波及其全资子公司获得三项发明专利

涉及的专利包括能源管理、智能家居用网关和低压配电网拓扑识别方法等，这些专利有助于提升公司在新能源业务上的竞争力，提高现场运维效率。

关键观点3: 苹果新专利实现了在可折叠设备的任意表面触敏控制

苹果通过构建设备所有表面的控制电路、电池及其他组件来实现这一功能，设备表面可以包含不透明部分与透明部分，并采用细小的金属线来实现任意表面的触敏控制。

关键观点4: 济大魏琴团队提出了一种纳米约束催化增强ECL的新策略

该策略将发光发光的鲁米诺衍生碳点组装到异质结二硫化钨/共价有机骨架上，建立了ECL强度和稳定性显著提高的纳米限制反应装置。

关键观点5: 中科大在单原子催化晶面效应研究中取得新进展

研究人员通过适当的制备方法，在二氧化铈的不同晶面上实现了铂单原子的定向沉积，不同晶面上的铂单原子展现出一氧化碳催化氧化性能的多样性。

文章预览

1.华羿微电“一种宽SOA屏蔽栅MOSFET器件及制备方法”专利获授权 2.东软载波及其全资子公司获三项发明专利 3.苹果新专利曝光 在可折叠设备的任意表面实现触敏控制 4.济大魏琴团队提出了一种纳米约束催化增强ECL的新策略 5.中科大在单原子催化晶面效应研究中取得新进展 1.华羿微电“一种宽SOA屏蔽栅MOSFET器件及制备方法”专利获授权 天眼查显示，华羿微电子股份有限公司近日取得一项名为“一种宽SOA屏蔽栅MOSFET器件及制备方法”的专利，授权公告号为CN118248736B，授权公告日为2024年8月30日，申请日为2024年5月23日。 本发明公开了一种宽SOA屏蔽栅MOSFET器件，通过在器件有源区中间隔错位或者平行排列而形成沟槽宽度和接触孔宽度的不同版图布局，该布局是通过光刻的方式在器件有源区中间隔错位或者平行排列形成沟槽和接触孔不同宽度，使得该区域拥 ………………………………