主要观点总结
随着数据中心内短距传输需求的增加,高速铜连接成为优选方案。英伟达新架构GB200的发布有望带动国内外对高速铜连接的需求,推动市场增长。国内算力链和海外供应链相关公司均有望受益。文章建议投资者关注切入英伟达产业链的国产线材和连接器供应商,以及国内算力链中的高速连接器供应商。
关键观点总结
关键观点1: 高速铜连接成为数据中心短距传输优选方案
随着数据传输需求和密度的增加,铜连接凭借性价比、稳定性和功耗优势成为数据中心内短距传输的优选方案。
关键观点2: 英伟达GB200新架构有望拉动铜连接需求
英伟达新架构GB200在背板连接、近芯片连接及外部I/O连接中广泛应用铜连接方案,预计将对铜连接市场产生积极影响。
关键观点3: 国内算力链和海外供应链公司有望受益
国内算力链和海外供应链相关公司,包括线材和连接器供应商、高速背板连接器厂商等,均有望受益于英伟达新架构对铜连接的需求增长。
关键观点4: 投资建议
投资者可关注切入英伟达产业链的国产线材和连接器供应商,以及国内算力链中的高速连接器供应商,以捕捉市场增长机会。
文章预览
铜连接:数据中心内短距传输优选,英伟达新方案有望拉动国内外需求 市场对于高速铜连接的研究多局限于铜缆本身,并未将连接器与线缆结合起来研判产业空间及发展趋势。本文将高速铜连接定义为线缆和连接器的整体解决方案,在市场空间测算和投资机会梳理中均充分考虑两者的区别并予以说明。市场或因英伟达供应链信息“GB200设计或从HDI+铜连接更改为高层高频低介电PCB”,而担忧未来高速铜连接市场空间受到影响,我们判断该影响有限。我们认为两类标的值得关注:1)切入英伟达产业链的国产线材 & 线缆供应商和连接器组件 & 代工商;2)国产算力链中的高速连接器供应商。 点击小程序查看研报原文 核心观点 铜连接:数据中心内短距传输优选,英伟达新方案有望拉动国内外需求 铜连接包含铜缆及连接器,在短距场景下,高速铜连接相较
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