延续摩尔定律，两种新方法

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👆如果您希望可以时常见面，欢迎标星🌟收藏哦~ 来源：内容由半导体行业观察（ID：ic ba nk）编 译自spectrum，谢 谢。 五十年前，DRAM 发明者、IEEE 荣誉勋章获得者罗伯特·丹纳德 (Robert Dennard)开创了半导体行业不断提高晶体管密度和芯片性能的途径。这条途径被称为丹纳德缩放，它帮助编纂了戈登·摩尔关于设备尺寸每 18 到 24 个月缩小一半的假设。几十年来，它迫使工程师不断突破半导体设备的物理极限。 但在 2000 年代中期，当 Dennard 缩放定律开始失去作用时，芯片制造商不得不求助于极紫外 (EUV) 光刻系统等奇特的解决方案，以试图保持摩尔定律的步伐。2017 年，在访问位于纽约州马耳他的 GlobalFoundries 并参观该公司安装其第一台EUV 系统时，高级编辑 Samuel K. Moore 向一位专家询问，该工厂需要什么才能实现更小的设备尺寸。“我们可能不得不在停 ………………………………