TBAF克星，去除率>99%，无需水洗

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硅保护基是合成化学中应用最广的保护基了，特别是作为醇或酚的保护基，好上又好脱除。以OTBS为例，即可酸性脱保护，又可以TBAF脱保护，使用TBAF脱保护，是充分利用了Si与F的亲和力，生成 更加稳定的Si-F 键。与酸性脱保护相比，温和的TBAF条件就更受到大家的青睐。然而，尽管 TBAF条件温和，但是它也给合成化学家们 带来了极大的困扰，那就是TBAF残留，产品LCMS纯度99%，HNMR就是过不了。这主要因为 TBAF 是两溶性的，既可以溶解于水相，又可以溶解于有机相，特别是卤代溶剂，比如二氯甲烷，因此大家在用水洗涤除去TBAF的时候，能不用二氯甲烷就不用二氯甲烷。大家可能会问，如何除去TBAF呢？就像刚刚说的，使用乙酸乙酯作为溶剂，用水多洗几次，可以除掉绝大部分的TBAF，再搭配柱层析，大板分离，或者制备HPLC大概率可以拿到合格的产品。 然 ………………………………