ASML出货第三台High NA EUV光刻机！

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国芯网[原:中国半导体论坛] 振兴国产半导体产业！     不拘中国、 放眼世界 ！ 关注 世界半导体论坛 ↓↓↓ 10月17日消息，在2024年第三季度财报披露中，ASML宣布向新客户出货第三台High NA EUV光刻系统，此前由于技术故障该公司意外提前发布了财务业绩。该公司承认，一些细分市场的复苏速度较慢，但对其长期前景仍持乐观态度。 在技术方面，ASML CFO戴厚杰在伴随ASML第三季度财报发布的视频采访中表示，客户对Low NA系统中NXE:3800E的偏好日益增加，原因是其吞吐量比之前的型号NXE:3600D高37%。2024年第四季度出货的大多数Low NA EUV设备将属于这种类型。ASML已成功展示NXE:3800E每小时220片晶圆的产能，并预计将于2025年初开始交付具有该规格的系统。 关于High NA系统，戴厚杰表示，ASML即将完成前两台交付设备的客户现场验收测试。第三台High NA设备目前正在交 ………………………………